Vol. 12 (03) pp. 1025-1039 DOI: 10.21474/IJAR01/18488

MAGNETO RESISTANCE SERIE DANS LA PHOTOPILE (N+/P/P+) AU SILICIUM SOUS ECLAIREMENT POLYCHROMATIQUE PAR LA FACE (N+)

  • Groupe International de Recherche en Energie Renouvelable (GIRER). BP. 15003, Dakar, Senegal.
  • Institut Universitaire de Technologie. Universite Iba Der THIAM de Thies-Senegal.
  • Faculte des Sciences et Technologies de lEducation et de la Formation-Departement de Physique et Chimie, Universite Cheikh Anta DIOP, Dakar-Senegal.
  • UniversiteAssane SECK, Ziguinchor, Senegal.
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Abstract

Dans ce travail, la photopile (n+/p/p+) au silicium cristallin est sous eclairement polychromatique par la face (n+) et placee dans un champ magnetique (B) constant. Letude de la caracteristique de la densite de courant en fonction de la tension, pour chaque valeur du coefficient de diffusion (D(B))des porteurs minoritaires de charge dans la base (p), depaisseur optimum (Hopt(B)) requise, permet detablir lexpression de la resistance serie (Rs(Hot(B)).De sa courbe de calibaration en fonction de la vitesse de recombinaison (Sf) des porteurs minoritaire de charge Ã  la jonction, la resistance serie est extraite en fonction du champ magnetique applique et de lepaisseur optimum de la base.

Keywords

How to Cite This Article

Cheikh Thiaw, Habiboula Lemrabott, Moustapha Thiame, Khady Loum, Sega Gueye, Issa Diagne and Gregoire Sissoko (2024); MAGNETO RESISTANCE SERIE DANS LA PHOTOPILE (N+/P/P+) AU SILICIUM SOUS ECLAIREMENT POLYCHROMATIQUE PAR LA FACE (N+), International Journal of Advanced Research (IJAR), 12 (03), 1025-1039, ISSN 2320-5407. DOI: https://doi.org/10.21474/IJAR01/18488

Corresponding Author

SISSOKO Gregoire
Groupe International de Recherche en Energie Renouvelable
Senegal

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